Projekts

.
.
Daudzslāņu silīcija nanokondensators ar uzlabotiem dielektriskiem slāņiem
Projekta publicitātes:
Projekta nosaukums: Daudzslāņu silīcija nanokondensators ar uzlabotiem dielektriskiem slāņiem
Projekta īsais nosaukums: -
Vienošanās par projekta īstenošanu numurs: 1.1.1.1/16/A/203
RTU Projektu reģistra numurs: 2601/2017
Struktūrvienība: Biomedicīnas inženierzinātņu un nanotehnoloģiju institūts
Projekta administrētājs: Projektu ieviešanas un koordinācijas nodaļa
Finansējošais fonds: ERAF, 1.1.1.1. “Praktiskas ievirzes pētījumi”
RTU loma projektā: vadošais partneris
Statuss: Īstenošanā
Projekta uzsākšanas datums: 01.03.2017.
Projekta noslēguma datums: 29.02.2020.
Finansējuma piešķīrēja nosaukums: Centrālā finanšu un līguma aģentūra
Projekta zinātniskais vadītājs: Jurijs Dehtjars
Projekta vadītājs administratīvajā jomā: Guna Čivčiša
Projekta kopējais finansējums:
648 605,05 EUR, tai skaitā 551 314.29 EUR ERAF finansējums un 48 645,38 EUR valsts budžeta finansējums
Projekta kopsavilkums:
NC ražošanas tirgus strauji attīstās un uzturēs savu attīstības tempu vismaz nākamus 10 gadus [1]. Pieaug pieprasījums pēc termiski stabiliem [1] un noturīgiem pret starojumu NC. NC izgatavošanai plaši izmanto uz silīcija balstītas tehnoloģijas. Latvijas ražotāju ienākšana NC ražošanas tirgū var palielināt Latvijas ekonomikas apgrozījumu par vismaz 0.23-10 MEUR katras 3-4 nedēļas. NC dielektrisko slāni visbiežāk iegūst, saliekot kopā vairākus Si3N4 (N) nanoslāņus, un ieskauj tos no abām pusēm ar SiO2 (O), iegūstot ON…NO struktūru. N…N slāņus iegūst vairākos tehnoloģiskos reaktoros. NC ražošanas izmaksas var samazināt, iegūstot N…N slāņus vienā reaktorā.
Projekta laikā tiks īstenotas sekojošas aktivitātes:
Tiks veikts rūpniecisks pētījums ar darbībām: 1) NC un ON…NO paraugu izgatavošana ar vienā reaktorā sintezētiem N…N slāņiem; 2) N…N, ON…NO un NC īpašību raksturošana, t.sk. pēc apstarošanas un karsēšanas; 3) NC ar N…N slāņiem izgatavošanas tehnoloģijas prototipa veidošana laboratorijas vidē.
Sadarbības partneris:
  • Latvijas Universitāte
  • AS "Alfa RPAR"
Projekta pirmā publicitāte: Lejupielādēt
Publicēts RTU mājas lapā: 10.03.2017.

Universitāte

_